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Intel2029年上1.4nm工艺?非官方路线图

作者: | 发布时间:2019-12-18 20

InteЫl的制程工艺一直√备受๑关注。今天早些З时候,荷兰г光刻Ⅴ↕机巨头A☑SML(♨阿斯麦〆)◤放出一张Э路线ↂ图,赫然罗列了Intel 7n〇m、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工艺节点,尤⿰其是最⊙后这个ш将在2▣▤▥029年上马的1.4nm非常意外,是我们第一次看到๑非整数工艺节点。♥

就此消息,▐快科技收到了Intel官方的澄清声明。

原来,з这张路线图并非完全来自Intel官方,而是ASML CEO *Martin van den Brin∞k拿了此前Inteξl 9月份公布的一张制程工艺更新≤PPT修改而来,自行添≦加了原来没有的几″个∏∞工艺名称,但并未说明,造成▌了误会。

这才是〖Intel的原ⓔ图:

换句话±说,Intel对于7nm、5nm、3n√m等等这些新工艺肯定是▁▂▃▄在研究推进的,原始PPT也明确2021年开始,会每两年对制程工艺进行一次重大升级,而且每γ代工艺都有+、++两次优化更新。

但是更具体的新工艺技术节点和对应时间表,Int■el尚未公布,1.4nm这样的另类更是完全无从谈起。

当然在另一方面,ASM¤L作为光┆┇刻&▍⊙机巨℅头,可以说是In卌te╝l工艺进步的源头之一,双方合作关系密切,肯定『了解一些Intel的规划,但未来究竟如何发展,还是要等Intel官方公布的消息了。

Intel还向我们强调,在摩尔定律精神的指引下,Inteⓛl推进☎创新的决心始终╳坚定!